第168章 光刻机新进展（1/2）

天宇科技被突如其来的订单推动着高速运转。那仅有的三套光刻机生产线，如同瓶颈一般，制约着芯片生产的规模与速度。林宇再次踏入姜老的实验室，心中满是对光刻机技术进展的期待。</p>

实验室里一如既往地弥漫着严谨而专注的氛围。各种仪器设备发出轻微的嗡嗡声，仿佛在诉说着研发工作的紧张与忙碌。姜老正站在一块巨大的白板前，上面画满了复杂的光路图和技术参数，他正和几位年轻的研究员热烈地讨论着。</p>

看到林宇进来，姜老脸上露出一丝欣慰的笑容：“林总，你又来关心光刻机的进展了。”</p>

林宇急切地回应道：“姜老，这订单压力实在太大了，光刻机的产量直接关系到我们能否按时交付产品啊。上次那100纳米光刻机技术现在进展得怎么样了？”</p>

姜老放下手中的笔，带着林宇走到一台大型设备前。这台设备被各种线缆和防护装置包裹着，看起来充满了科技感。</p>

“林总，你看，自从上次你来过后，我们在100纳米光刻机技术上又取得了不少关键的进展。”姜老一边说，一边示意助手打开设备的展示模式。</p>

设备的显示屏上开始出现各种数据和模拟动画。姜老指着屏幕上的一个部件模型解释道：“这是我们重新设计的光刻镜头，在你给我们的技术基础上，我们进一步优化了镜头的光学结构。现在这个镜头的数值孔径提高了不少，能够更有效地收集和聚焦光线，这对于提高光刻分辨率至关重要。”</p>

林宇看着屏幕上复杂的结构模型，心中满是惊喜：“姜老，这看起来很了不起啊。那这个镜头在实际测试中的表现如何呢？”</p>

姜老微微一笑，带着林宇来到一个测试间。测试间里，一台小型的光刻实验设备正在运行。透过观察窗，可以看到微弱的光线在芯片样本上精确地刻蚀着微小的电路图案。</p>

“林总，我们已经进行了多次实际测试。这个新镜头在100纳米尺度下的光刻精度已经非常稳定了。它能够清晰地刻出复杂的电路结构，而且在不同的芯片材料上都表现出了良好的适应性。”姜老自豪地说道。</p>

林宇心中的一块大石头落了地：“姜老，这真是个好消息。那euv光源的稳定性问题呢？上次您提到这个是一个关键的挑战。”</p>

姜老的表情变得严肃起来：“林总，euv光源的稳定性我们也有了很大的改善。你还记得上次我们调整了光源的激发频率和能量输入方式吗？在那之后，我们又对光源的内部结构进行了优化。”</p>

姜老带着林宇来到一个单独的房间，里面摆放着一个巨大的euv光源装置。装置周围布满了各种监测仪器，数据在屏幕上不断跳动。</p>

“我们改进了euv光源的等离子体产生机制，通过精确控制电子的注入和磁场的约束，使得等离子体的稳定性大大提高。现在，euv光源的输出功率波动已经控制在一个非常小的范围内，基本能够满足长时间光刻的需求。”姜老详细地介绍着。</p>

林宇仔细观察着仪器上的数据，脸上露出了满意的笑容：“姜老，您和您的团队真是太厉害了。这对我们公司来说是一个巨大的突破。”</p>

姜老摆摆手：“林总，先别高兴得太早。虽然我们在这些关键部件上取得了进展，但整个光刻机系统还有一些问题需要解决。”</p>

林宇心中一紧：“姜老，还有什么问题呢？”</p>

姜老带着林宇回到白板前，指着白板上的一些电路图和控制系统图说道：“林总，你看，目前我们的光刻机控制系统还不够智能化。在光刻过程中，需要实时监测和调整的参数非常多，比如光刻胶的曝光剂量、工作台的移动速度、光源的功率等等。我们现有的控制系统在处理这些复杂的参数时，响应速度和精度还有待提高。”</p>

“姜老，我仔细思考过您之前提到的光刻机控制系统的问题。我有一些想法，或许能够对其进行优化。”林宇自信地说道。</p>

姜老眼睛一亮：“林总，那你快说说看。”</p>

林宇走到白板前，拿起笔开始画图讲解。“目前控制系统在处理多个复杂参数时响应速度和精度不足，我们可以从架构上进行重新设计。首先，采用分层式的控制系统架构，将整个系统分为感知层、决策层和执行层。”</p>

林宇在白板上画出简单的架构图，继续解释道：“感知层负责实时收集光刻过程中的各种参数，如光刻胶的曝光剂量、工作台的移动速度、光源的功率等。我们可以采用更先进的传感器技术，提高参数采集的精度和频率。”</p>