第167章 光刻机技术的进展（2/2）

姜老说：“我们正在尝试通过改进电源供应系统和冷却系统来提高euv光源的稳定性。另外，光刻机的整体控制系统也还不够完善。我们需要开发一套更智能、更精确的控制系统，能够实时监测和调整光刻机的各项参数，以确保光刻过程的准确性。”</p>

林宇思考片刻后说：“姜老，公司目前急需增加光刻机的产量。您看，如果在现有的基础上，我们能不能先组装出一些简易的光刻机来满足生产需求呢？虽然可能达不到100纳米的完美精度，但只要能提高一些生产效率也好。”</p>

姜老沉思了一会儿说：“小林，理论上是可以的。我们可以利用现有的一些部件，组装出一些精度稍低的光刻机。但是这样做也有风险，可能会生产出一些次品芯片，这对公司的声誉可能会有影响。”</p>

林宇权衡了一下利弊：“姜老，我知道有风险。但是目前订单的压力实在太大了。如果能在短时间内提高芯片产量，哪怕有一些次品率，我们可以通过后续的检测筛选出来。只要能保证最终交付给客户的产品质量就好。”</p>

姜老点了点头：“既然你已经考虑清楚了，那我们可以尝试一下。不过，我还是建议我们要尽快解决100纳米光刻机的技术难题，这才是长久之计。”</p>

林宇表示同意：“姜老，您说得对。那在组装简易光刻机和完善100纳米光刻机技术方面，您这边还需要什么支持吗？”</p>

姜老说：“小林，我们需要一些资金来购买更多的实验材料和设备。另外，我们也希望能有更多的技术人员加入到这个项目中来，加快研发进度。”</p>

林宇毫不犹豫地说：“姜老，资金方面我会尽快安排财务部门给您拨付。技术人员方面，我会从公司的其他部门抽调一些有经验的人员过来支援您。”</p>

就在这时，姜老的助手小李跑过来，兴奋地说：“姜老，林总，我们刚刚在euv光源的稳定性测试中取得了新的突破。我们调整了光源的激发频率和能量输入方式，经过长时间的测试，发现光源的输出功率波动明显减小了。”</p>

姜老和林宇听了这个消息都非常高兴。姜老说：“这是个好消息啊。看来我们的研发方向是正确的。只要继续沿着这个方向努力，euv光源的稳定性问题很快就能解决了。”</p>

林宇也激动地说：“姜老，这真是个振奋人心的消息。这意味着我们的100纳米光刻机技术离成功又近了一步。希望您和您的团队能够再接再厉，早日完成研发任务。”</p>

在离开实验室之前，林宇又鼓励了姜老和他的团队一番。他知道，光刻机技术对于天宇科技来说至关重要，它不仅关系到能否满足眼前的订单需求，更关系到公司在半导体领域的长远发展。</p>

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